SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films: Fid-Bau Portal

SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films

Kimura, K. / Nakajima, K. / Kobayashi, H. / Miwa, S. / Satori, K.

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Titel:

SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films

Beteiligte:

Kimura, K. (Autor:in) / Nakajima, K. (Autor:in) / Kobayashi, H. (Autor:in) / Miwa, S. (Autor:in) / Satori, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 203-204 ; 418-422

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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