SiOxNy thin films with variable refraction index: Microstructural, chemical and mechanical properties: Fid-Bau Portal

SiOxNy thin films with variable refraction index: Microstructural, chemical and mechanical properties

Godinho, V. / Haro, M. C. / Garcia-Lopez, J. / Goossens, V. / Terryn, H. / Delplancke-Ogletree, M. P. / Fernandez, A.

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Titel:

SiOxNy thin films with variable refraction index: Microstructural, chemical and mechanical properties

Beteiligte:

Godinho, V. (Autor:in) / Haro, M. C. (Autor:in) / Garcia-Lopez, J. (Autor:in) / Goossens, V. (Autor:in) / Terryn, H. (Autor:in) / Delplancke-Ogletree, M. P. (Autor:in) / Fernandez, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 4548-4553

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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