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    Dokumentinformationen
    Titel:

    TOF-SIMS measurement of ultra-thin SiO2 films prepared by the graded-etching method

    Beteiligte:

    Shibamori, T. (Autor:in) / Muraji, Y. (Autor:in) / Man, N. (Autor:in) / Karen, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 203-204 ; 449-452

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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