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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Approaching the limit for quantitative SIMS measurement of ultra-thin nitrided SiO2 films

    Beteiligte:

    Novak, S. W. (Autor:in) / Bekos, E. J. (Autor:in) / Marino, J. W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 175-176 ; 678-684

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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