Phase stability of epitaxial KTa~xNb~1~-~xO~3 thin films deposited by metalorganic chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Phase stability of epitaxial KTa~xNb~1~-~xO~3 thin films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

Nichols, B. M. / Hoerman, B. H. / Hwang, J.-H. / Mason, T. O. / Wessels, B. W.

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Titel:

Phase stability of epitaxial KTa~xNb~1~-~xO~3 thin films deposited by metalorganic chemical vapor deposition

Beteiligte:

Nichols, B. M. (Autor:in) / Hoerman, B. H. (Autor:in) / Hwang, J.-H. (Autor:in) / Mason, T. O. (Autor:in) / Wessels, B. W. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 18 ; 106-110

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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