Titanium disilicide formation by rf plasma enhanced chemical vapor deposition and film properties: Fid-Bau Portal

Titanium disilicide formation by rf plasma enhanced chemical vapor deposition and film properties

Fouad, O. A. / Yamazato, M. / Ichinose, H. / Nagano, M.

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Titel:

Titanium disilicide formation by rf plasma enhanced chemical vapor deposition and film properties

Beteiligte:

Fouad, O. A. (Autor:in) / Yamazato, M. (Autor:in) / Ichinose, H. (Autor:in) / Nagano, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 206 ; 159-166

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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