Effect of in situ H2-plasma cleaning on TiSi2 film properties in plasma enhanced chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Effect of in situ H2-plasma cleaning on TiSi2 film properties in plasma enhanced chemical vapor deposition

Fouad, O. A. / Yamazato, M. / Ahagon, H. / Nagano, M.

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Titel:

Effect of in situ H2-plasma cleaning on TiSi2 film properties in plasma enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Fouad, O. A. (Autor:in) / Yamazato, M. (Autor:in) / Ahagon, H. (Autor:in) / Nagano, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 57 ; 2965-2969

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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