Internal linear inductively coupled plasma (ICP) sources for large area FPD etch process applications: Fid-Bau Portal

Internal linear inductively coupled plasma (ICP) sources for large area FPD etch process applications

Lee, Y. J. / Kim, K. N. / Song, B. K. / Yeom, G. Y.

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Titel:

Internal linear inductively coupled plasma (ICP) sources for large area FPD etch process applications

Beteiligte:

Lee, Y. J. (Autor:in) / Kim, K. N. (Autor:in) / Song, B. K. (Autor:in) / Yeom, G. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 419-423

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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