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    Titel:

    Electrochemical polishing of copper for microelectronic applications

    Beteiligte:

    Huo, J. (Autor:in) / Solanki, R. (Autor:in) / McAndrew, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    SURFACE ENGINEERING -LONDON- ; 19 ; 11-16

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0267-0844

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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