SIMS characterization of hydrogen transport through SiO2 by low-temperature hydrogen annealing: Fid-Bau Portal

SIMS characterization of hydrogen transport through SiO2 by low-temperature hydrogen annealing

Kawashima, Y. / Liu, Z. / Terashima, K. / Hamada, K. / Fukutani, K. / Wilde, M. / Aoyagi, S. / Kudo, M.

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Titel:

SIMS characterization of hydrogen transport through SiO2 by low-temperature hydrogen annealing

Beteiligte:

Kawashima, Y. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Terashima, K. (Autor:in) / Hamada, K. (Autor:in) / Fukutani, K. (Autor:in) / Wilde, M. (Autor:in) / Aoyagi, S. (Autor:in) / Kudo, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 212-213 ; 804-808

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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