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    Titel:

    Comparison of thermal and plasma oxidations for HfO2/Si interface

    Beteiligte:

    Hayashi, S. (Autor:in) / Yamamoto, K. (Autor:in) / Harada, Y. (Autor:in) / Mitsuhashi, R. (Autor:in) / Eriguchi, K. (Autor:in) / Kubota, M. (Autor:in) / Niwa, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 216 ; 228-233

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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