Characterization of silicon oxynitride thin films deposited by electron beam physical vapor deposition technique: Fid-Bau Portal

Characterization of silicon oxynitride thin films deposited by electron beam physical vapor deposition technique

Mohite, K. C. / Khollam, Y. B. / Mandale, A. B. / Patil, K. R. / Takwale, M. G.

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Titel:

Characterization of silicon oxynitride thin films deposited by electron beam physical vapor deposition technique

Beteiligte:

Mohite, K. C. (Autor:in) / Khollam, Y. B. (Autor:in) / Mandale, A. B. (Autor:in) / Patil, K. R. (Autor:in) / Takwale, M. G. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 57 ; 4170-4175

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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