Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD: Fid-Bau Portal

Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD

Criado, D. / Alayo, M. I. / Pereyra, I. / Fantini, M. C.

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Titel:

Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD

Beteiligte:

Criado, D. (Autor:in) / Alayo, M. I. (Autor:in) / Pereyra, I. (Autor:in) / Fantini, M. C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 112 ; 123-127

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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