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    Titel:

    Amorphous stability of HfO2 based ternary and binary composition spread oxide films as alternative gate dielectrics

    Beteiligte:

    Hasegawa, K. (Autor:in) / Ahmet, P. (Autor:in) / Okazaki, N. (Autor:in) / Hasegawa, T. (Autor:in) / Fujimoto, K. (Autor:in) / Watanabe, M. (Autor:in) / Chikyow, T. (Autor:in) / Koinuma, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 223 ; 229-232

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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