Low temperature, high growth rate epitaxial silicon and silicon germanium alloy films: Fid-Bau Portal

Low temperature, high growth rate epitaxial silicon and silicon germanium alloy films

Todd, M. A. / Weeks, K. D.

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Titel:

Low temperature, high growth rate epitaxial silicon and silicon germanium alloy films

Beteiligte:

Todd, M. A. (Autor:in) / Weeks, K. D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 224 ; 41-45

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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