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Deep reactive ion etching of PMMA

Zhang, C. / Yang, C. / Ding, D.

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Titel:

Deep reactive ion etching of PMMA

Beteiligte:

Zhang, C. (Autor:in) / Yang, C. (Autor:in) / Ding, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 227 ; 139-143

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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