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Deep reactive ion etching: a promising technology for micro- and nanosatellites

Ayon, A. A. / Bayt, R. L. / Breuer, K. S.

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Titel:

Deep reactive ion etching: a promising technology for micro- and nanosatellites

Beteiligte:

Ayon, A. A. (Autor:in) / Bayt, R. L. (Autor:in) / Breuer, K. S. (Autor:in)

Erschienen in:

Special Issue on Space Applications for MEMS ; 1135-1144

SMART MATERIALS AND STRUCTURES ; 10

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0964-1726

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 530

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