Pulsed laser ablation of silicon with low laser fluence in a low-pressure of ammonia ambient: Fid-Bau Portal

Pulsed laser ablation of silicon with low laser fluence in a low-pressure of ammonia ambient

Choo, C. K. / Tohara, M. / Enomoto, K. / Tanaka, K.

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Titel:

Pulsed laser ablation of silicon with low laser fluence in a low-pressure of ammonia ambient

Beteiligte:

Choo, C. K. (Autor:in) / Tohara, M. (Autor:in) / Enomoto, K. (Autor:in) / Tanaka, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 228 ; 120-127

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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