Effect of argon ion beam voltages on the microstructure of aluminum nitride films prepared at room temperature by a dual ion beam sputtering system: Fid-Bau Portal

Effect of argon ion beam voltages on the microstructure of aluminum nitride films prepared at room temperature by a dual ion beam sputtering system

Chen, H. Y. / Han, S. / Cheng, C. H. / Shih, H. C.

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Titel:

Effect of argon ion beam voltages on the microstructure of aluminum nitride films prepared at room temperature by a dual ion beam sputtering system

Beteiligte:

Chen, H. Y. (Autor:in) / Han, S. (Autor:in) / Cheng, C. H. (Autor:in) / Shih, H. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 228 ; 128-134

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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