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    Titel:

    Depth profile analysis of chemically amplified resist by using TOF-SIMS with gradient shaving preparations

    Beteiligte:

    Man, N. (Autor:in) / Okumura, H. (Autor:in) / Oizumi, H. (Autor:in) / Nagai, N. (Autor:in) / Seki, H. (Autor:in) / Nishiyama, I. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 231/232 ; 353-356

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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