Differences of Stark shift behavior in Si/SiO2 quantum wells and quantum dots: Fid-Bau Portal

Differences of Stark shift behavior in Si/SiO2 quantum wells and quantum dots

de Sousa, J. S. / Freire, J. A. / Freire, V. N. / Silva, E. F.

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Titel:

Differences of Stark shift behavior in Si/SiO2 quantum wells and quantum dots

Beteiligte:

de Sousa, J. S. (Autor:in) / Freire, J. A. (Autor:in) / Freire, V. N. (Autor:in) / Silva, E. F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 237 ; 544-548

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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