Ni based silicides for 45nm CMOS and beyond: Fid-Bau Portal

Ni based silicides for 45nm CMOS and beyond

Lauwers, A. / Kittl, J. A. / Van Dal, M. J. / Chamirian, O. / Pawlak, M. A. / de Potter, M. / Lindsay, R. / Raymakers, T. / Pages, X. / Mebarki, B.

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Titel:

Ni based silicides for 45nm CMOS and beyond

Beteiligte:

Lauwers, A. (Autor:in) / Kittl, J. A. (Autor:in) / Van Dal, M. J. (Autor:in) / Chamirian, O. (Autor:in) / Pawlak, M. A. (Autor:in) / de Potter, M. (Autor:in) / Lindsay, R. (Autor:in) / Raymakers, T. (Autor:in) / Pages, X. (Autor:in) / Mebarki, B. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 114/115 ; 29-41

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

13 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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