Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node: Fid-Bau Portal

Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node

Collart, E. J. / Felch, S. B. / Graoui, H. / Kirkwood, D. / Tallavarjula, S. / Berg, J. A. / Hamilton, J. / Cowern, N. E. / Kirkby, K. J.

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Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node

Collart, E. J. / Felch, S. B. / Graoui, H. / Kirkwood, D. / Tallavarjula, S. / Berg, J. A. / Hamilton, J. / Cowern, N. E. / Kirkby, K. J.

Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node

Collart, E. J. / Felch, S. B. / Graoui, H. / Kirkwood, D. / Tallavarjula, S. / Berg, J. A. / Hamilton, J. / Cowern, N. E. / Kirkby, K. J.

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Titel:

Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node

Beteiligte:

Collart, E. J. (Autor:in) / Felch, S. B. (Autor:in) / Graoui, H. (Autor:in) / Kirkwood, D. (Autor:in) / Tallavarjula, S. (Autor:in) / Berg, J. A. (Autor:in) / Hamilton, J. (Autor:in) / Cowern, N. E. (Autor:in) / Kirkby, K. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 114/115 ; 118-129

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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