The Structure and Hardness of RF-Reactive Sputtered Ti-Zr-N Films: Fid-Bau Portal

The Structure and Hardness of RF-Reactive Sputtered Ti-Zr-N Films

Park, H. / Hong, H. / Hwang, S. K. / Lee, C.

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Titel:

The Structure and Hardness of RF-Reactive Sputtered Ti-Zr-N Films

Beteiligte:

Park, H. (Autor:in) / Hong, H. (Autor:in) / Hwang, S. K. (Autor:in) / Lee, C. (Autor:in) / Pan, W. / Gong, J. / Ge, C.-C. / Li, J.-F.

Erschienen in:

High-Performance Ceramics III ; 1449-1452

KEY ENGINEERING MATERIALS

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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