Comparision of residual stress and optical properties in Ta2O5 thin films deposited by single and dual ion beam sputtering: Fid-Bau Portal

Comparision of residual stress and optical properties in Ta2O5 thin films deposited by single and dual ion beam sputtering

Yoon, S. G. / Kim, Y. T. / Kim, H. K. / Kim, M. J. / Lee, H. M. / Yoon, D. H.

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Titel:

Comparision of residual stress and optical properties in Ta2O5 thin films deposited by single and dual ion beam sputtering

Beteiligte:

Yoon, S. G. (Autor:in) / Kim, Y. T. (Autor:in) / Kim, H. K. (Autor:in) / Kim, M. J. (Autor:in) / Lee, H. M. (Autor:in) / Yoon, D. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 118 ; 234-237

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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