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    Titel:

    Corrosion Inhibiting Effect on Copper Chemical Mechanical Planarization (CMP) in Fe(NO~3)~3 Based Slurries

    Beteiligte:

    Guo, D. M. (Autor:in) / Li, X. J. (Autor:in) / Jin, Z. J. (Autor:in) / Kang, R. K. (Autor:in) / Tamaki, J. / Kuriyagawa, T. / Baron, Y. M.

    Erschienen in:

    Advances in Abrasive Technology VIII ; 395-400

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 291/292

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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