Ion-, photoelectron- and laser-assisted analytical investigation of nano-structured mixed HfO2-SiO2 and ZrO2-SiO2 thin films: Fid-Bau Portal

Ion-, photoelectron- and laser-assisted analytical investigation of nano-structured mixed HfO2-SiO2 and ZrO2-SiO2 thin films

Armelao, L. / Bleiner, D. / Di Noto, V. / Gross, S. / Sada, C. / Schubert, U. / Tondello, E. / Vonmont, H. / Zattin, A.

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Armelao, L. / Bleiner, D. / Di Noto, V. / Gross, S. / Sada, C. / Schubert, U. / Tondello, E. / Vonmont, H. / Zattin, A.

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Titel:

Ion-, photoelectron- and laser-assisted analytical investigation of nano-structured mixed HfO2-SiO2 and ZrO2-SiO2 thin films

Beteiligte:

Armelao, L. (Autor:in) / Bleiner, D. (Autor:in) / Di Noto, V. (Autor:in) / Gross, S. (Autor:in) / Sada, C. (Autor:in) / Schubert, U. (Autor:in) / Tondello, E. (Autor:in) / Vonmont, H. (Autor:in) / Zattin, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 249 ; 277-294

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

18 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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