Influence of ZrO2 in HfO2 on reflectance of HfO2/SiO2 multilayer at 248nm prepared by electron-beam evaporation: Fid-Bau Portal

Influence of ZrO2 in HfO2 on reflectance of HfO2/SiO2 multilayer at 248nm prepared by electron-beam evaporation

Yuan, J. / Yuan, L. / He, H. / Yi, K. / Fan, Z. / Shao, J.

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Titel:

Influence of ZrO2 in HfO2 on reflectance of HfO2/SiO2 multilayer at 248nm prepared by electron-beam evaporation

Beteiligte:

Yuan, J. (Autor:in) / Yuan, L. (Autor:in) / He, H. (Autor:in) / Yi, K. (Autor:in) / Fan, Z. (Autor:in) / Shao, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 4864-4867

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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