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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Si-SiO2 interface formation in low-dose low-energy separation by implanted oxygen materials

    Beteiligte:

    Jutarosaga, T. (Autor:in) / Manne, S. (Autor:in) / Seraphin, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 250 ; 168-181

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    14 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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