XRD analysis of strained Ge-SiGe heterostructures on relaxed SiGe graded buffers grown by hybrid epitaxy on Si(001) substrates: Fid-Bau Portal

XRD analysis of strained Ge-SiGe heterostructures on relaxed SiGe graded buffers grown by hybrid epitaxy on Si(001) substrates

Franco, N. / Barradas, N. P. / Alves, E. / Vallera, A. M. / Morris, R. J. / Mironov, O. A. / Parker, E. H.

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Titel:

XRD analysis of strained Ge-SiGe heterostructures on relaxed SiGe graded buffers grown by hybrid epitaxy on Si(001) substrates

Beteiligte:

Franco, N. (Autor:in) / Barradas, N. P. (Autor:in) / Alves, E. (Autor:in) / Vallera, A. M. (Autor:in) / Morris, R. J. (Autor:in) / Mironov, O. A. (Autor:in) / Parker, E. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 123-126

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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