Formation of buried insulating island-like SiO2 layer in silicon: Fid-Bau Portal

Formation of buried insulating island-like SiO2 layer in silicon

Frantskevich, A. V. / Fedotov, A. K. / Frantskevich, N. V. / Mazanik, A. V. / Rau, E. I. / Kulinkayskas, V. S.

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Titel:

Formation of buried insulating island-like SiO2 layer in silicon

Beteiligte:

Frantskevich, A. V. (Autor:in) / Fedotov, A. K. (Autor:in) / Frantskevich, N. V. (Autor:in) / Mazanik, A. V. (Autor:in) / Rau, E. I. (Autor:in) / Kulinkayskas, V. S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 341-344

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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