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    Titel:

    Si nanocrystal-containing SiOx (x<2) produced by thermal annealing of PECVD realized thin films

    Beteiligte:

    Bedjaoui, M. (Autor:in) / Despax, B. (Autor:in) / Caumont, M. (Autor:in) / Bonafos, C. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 508-512

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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