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    Titel:

    Chemical-Assisted Mechanical Polishing of Diamond Film on Wafer

    Beteiligte:

    Ho-Cheng, H. (Autor:in) / Chen, C. C. (Autor:in) / Jywe, W. / Chen, C.-L. / Fan, K.-C. / Fung, R. F. / Hanson, S. G. / Hsieh, W.-H. / Hsu, C.-L. / Huang, Y.-M.

    Erschienen in:

    Progress on Advanced Manufacture for Micro/Nano Technology 2005: PART 2 Proceedings of the 2005 International Conference on Advanced Manufacture Taipei, Taiwan, R.O.C. November 28^t^h - December 2^n^d, 2005 ; 1225-1230

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 505/507

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2006

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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