Effects of annealing temperature on the optical, bonding, structural and electrical properties of nitrogenated amorphous carbon thin films grown by surface wave microwave plasma chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Effects of annealing temperature on the optical, bonding, structural and electrical properties of nitrogenated amorphous carbon thin films grown by surface wave microwave plasma chemical vapor deposition

Rusop, M. / Omer, A. M. / Adhikari, S. / Adhikary, S. / Uchida, H. / Soga, T. / Jimbo, T. / Umeno, M.

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Beteiligte:

Rusop, M. (Autor:in) / Omer, A. M. (Autor:in) / Adhikari, S. (Autor:in) / Adhikary, S. (Autor:in) / Uchida, H. (Autor:in) / Soga, T. (Autor:in) / Jimbo, T. (Autor:in) / Umeno, M. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 41 ; 537-547

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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