Dissolution behaviour of the barrier layer of porous oxide films on aluminum formed in phosphoric acid studied by a re-anodizing technique: Fid-Bau Portal

Dissolution behaviour of the barrier layer of porous oxide films on aluminum formed in phosphoric acid studied by a re-anodizing technique

Vrublevsky, I. / Parkoun, V. / Schreckenbach, J. / Goedel, W. A.

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Titel:

Dissolution behaviour of the barrier layer of porous oxide films on aluminum formed in phosphoric acid studied by a re-anodizing technique

Beteiligte:

Vrublevsky, I. (Autor:in) / Parkoun, V. (Autor:in) / Schreckenbach, J. (Autor:in) / Goedel, W. A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 5100-5108

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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