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    Dokumentinformationen
    Titel:

    ToF-SIMS and AFM studies of low-k dielectric etching in fluorocarbon plasmas

    Beteiligte:

    Lazzeri, P. (Autor:in) / Hua, X. (Autor:in) / Oehrlein, G. (Autor:in) / Iacob, E. (Autor:in) / Barozzi, M. (Autor:in) / Bersani, M. (Autor:in) / Anderle, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7186-7189

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2006

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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