Effect of SiO~2 Cap Layer on Thermal Stability of Nickel and Nickel-Cobalt Silicide: Fid-Bau Portal

Effect of SiO~2 Cap Layer on Thermal Stability of Nickel and Nickel-Cobalt Silicide

Han, K. J. / Cho, Y. J. / Oh, S. Y. / Kim, Y. J. / Lee, W. J. / Lee, H. D. / Kim, Y. C.

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Titel:

Effect of SiO~2 Cap Layer on Thermal Stability of Nickel and Nickel-Cobalt Silicide

Beteiligte:

Han, K. J. (Autor:in) / Cho, Y. J. (Autor:in) / Oh, S. Y. (Autor:in) / Kim, Y. J. (Autor:in) / Lee, W. J. (Autor:in) / Lee, H. D. (Autor:in) / Kim, Y. C. (Autor:in) / Lee, S.-S. / Lee, J. H. / Park, I. K.

Erschienen in:

Advanced Nondestructive Evaluation I ; 1322-1325

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 321/323

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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