Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient Using Hot-Wall CVD
Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient Using Hot-Wall CVD
Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient Using Hot-Wall CVD
Rao, S. P. (Autor:in) / Bergamini, F. (Autor:in) / Nipoti, R. (Autor:in) / Hoff, A. M. (Autor:in) / Oborina, E. (Autor:in) / Saddow, S. E. (Autor:in) / Devaty, R. P. / Larkin, D. J. / Saddow, S. E.
01.01.2006
4 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
620.11
© Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.
| British Library Online Contents | 2006
Silane overpressure post-implant annealing of Al dopants in SiC: Cold wall CVD apparatus
| British Library Online Contents | 2006
Current Analysis of Ion Implanted p^+/n 4H-SiC Junctions: Post-Implantation Annealing in Ar Ambient
| British Library Online Contents | 2006
Post-Implantation Annealing of Aluminum in 6H-SiC
| British Library Online Contents | 1998
A new encapsulation method of InP during post implantation annealing
| British Library Online Contents | 1993