Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Surface phenomena related to mirror degradation in extreme ultraviolet (EUV) lithography

    Neue Suche nach: Madey, T. E.
    Neue Suche nach: Faradzhev, N. S.
    Neue Suche nach: Yakshinskiy, B. V.
    Neue Suche nach: Edwards, N. V.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Surface phenomena related to mirror degradation in extreme ultraviolet (EUV) lithography

    Neue Suche nach: Madey, T. E.
    Neue Suche nach: Faradzhev, N. S.
    Neue Suche nach: Yakshinskiy, B. V.
    Neue Suche nach: Edwards, N. V.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Surface phenomena related to mirror degradation in extreme ultraviolet (EUV) lithography

    Neue Suche nach: Madey, T. E.
    Neue Suche nach: Faradzhev, N. S.
    Neue Suche nach: Yakshinskiy, B. V.
    Neue Suche nach: Edwards, N. V.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Surface phenomena related to mirror degradation in extreme ultraviolet (EUV) lithography

    Beteiligte:

    Madey, T. E. (Autor:in) / Faradzhev, N. S. (Autor:in) / Yakshinskiy, B. V. (Autor:in) / Edwards, N. V. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 1691-1708

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2006

    Format / Umfang:

    18 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Study on contamination of projection optics surface for extreme ultraviolet lithography

    Koida, K. / Niibe, M. | British Library Online Contents | 2009

    Patterning at the nanoscale: Atomic force microscopy and extreme ultraviolet interference lithography

    Parisse, P. / Luciani, D. / D'Angelo, A. et al. | British Library Online Contents | 2009

    Effect of post-etch cleaning on Ru-capped extreme ultraviolet lithography photomask

    Oh, J. / Park, C. / Seo, D. et al. | British Library Online Contents | 2012

    Mitigation of ion and particulate emission from laser-produced plasmas used for extreme ultraviolet lithography

    Di Lazzaro, P. / Bollanti, S. / Flora, F. et al. | British Library Online Contents | 2013

    Extreme UV lithography to power electronics

    British Library Online Contents | 2008

    Nach oben