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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Deposition of sputtered iridium oxide-Influence of oxygen flow in the reactor on the film properties

    Beteiligte:

    Slavcheva, E. (Autor:in) / Schnakenberg, U. (Autor:in) / Mokwa, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 1964-1969

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2006

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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