Plasma Etching for the Application to Low-K Dielectrics Devices: Fid-Bau Portal

Plasma Etching for the Application to Low-K Dielectrics Devices

Lee, J. W. / Kim, H. W. / Han, J. W. / Kim, M. S. / Yoo, B. D. / Kim, M. H. / Lee, C. H. / Lim, C. H. / Hwang, S. K.

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Lee, J. W. / Kim, H. W. / Han, J. W. / Kim, M. S. / Yoo, B. D. / Kim, M. H. / Lee, C. H. / Lim, C. H. / Hwang, S. K.

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Titel:

Plasma Etching for the Application to Low-K Dielectrics Devices

Beteiligte:

Lee, J. W. (Autor:in) / Kim, H. W. (Autor:in) / Han, J. W. (Autor:in) / Kim, M. S. (Autor:in) / Yoo, B. D. (Autor:in) / Kim, M. H. (Autor:in) / Lee, C. H. (Autor:in) / Lim, C. H. (Autor:in) / Hwang, S. K. (Autor:in) / Uskokovic, D. P.

Erschienen in:

Research Trends in Contemporary Materials Science ; 113-118

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 555

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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