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    Titel:

    A New Technology for Chemical Polishing of Copper in Weak Alkaline Solution

    Beteiligte:

    Jing, T. (Autor:in) / Zhang, Z.-c. (Autor:in) / Li, G.-w. (Autor:in) / Zhao, F. (Autor:in)

    Erschienen in:

    CORROSION SCIENCE AND PROTECTION TECHNOLOGY ; 19 ; 367-370

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    1002-6495

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11223

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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