Structural characterization of nc-Si films grown by low-energy PECVD on different substrates: Fid-Bau Portal

Structural characterization of nc-Si films grown by low-energy PECVD on different substrates

Le Donne, A. / Binetti, S. / Isella, G. / Pichaud, B. / Texier, M. / Acciarri, M. / Pizzini, S.

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Titel:

Structural characterization of nc-Si films grown by low-energy PECVD on different substrates

Beteiligte:

Le Donne, A. (Autor:in) / Binetti, S. (Autor:in) / Isella, G. (Autor:in) / Pichaud, B. (Autor:in) / Texier, M. (Autor:in) / Acciarri, M. (Autor:in) / Pizzini, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 2804-2808

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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