Characterization of oxygen and nitrogen rapid thermal annealing processes for ultra-low-k SiCOH films: Fid-Bau Portal

Characterization of oxygen and nitrogen rapid thermal annealing processes for ultra-low-k SiCOH films

Lee, S. / Jung, D. / Yang, J. / Boo, J.-h. / Kim, H. / Lee, J. / Chae, H.

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Titel:

Characterization of oxygen and nitrogen rapid thermal annealing processes for ultra-low-k SiCOH films

Beteiligte:

Lee, S. (Autor:in) / Jung, D. (Autor:in) / Yang, J. (Autor:in) / Boo, J.-h. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in) / Lee, J. (Autor:in) / Chae, H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 23 ; 856-861

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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