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    Titel:

    Investigation of Ultra Thin Thermal Nitrided Gate Dielectrics in Comparison to Plasma Nitrided Gate Dielectrics for High-Performance Logic Application for 65nm

    Beteiligte:

    Trentzsch, M. (Autor:in) / Golz, C. (Autor:in) / Wieczorek, K. (Autor:in) / Stephan, R. (Autor:in) / Mantei, T. (Autor:in) / Bayha, B. (Autor:in) / Ohsiek, S. (Autor:in) / Raab, M. (Autor:in) / Nenyei, Z. (Autor:in) / Lerch, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Rapid Thermal Processing and beyond: Applications in Semiconductor Processing ; 153-164

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 573/574

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    12 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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