Surface passivation of InGaP/GaAs HBT using silicon-nitride film deposited by ECR-CVD plasma: Fid-Bau Portal

Surface passivation of InGaP/GaAs HBT using silicon-nitride film deposited by ECR-CVD plasma

Manera, L. T. / Zoccal, L. B. / Diniz, J. A. / Tatsch, P. J. / Doi, I.

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Titel:

Surface passivation of InGaP/GaAs HBT using silicon-nitride film deposited by ECR-CVD plasma

Beteiligte:

Manera, L. T. (Autor:in) / Zoccal, L. B. (Autor:in) / Diniz, J. A. (Autor:in) / Tatsch, P. J. (Autor:in) / Doi, I. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 6063-6066

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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