Kinetic Monte Carlo simulation of {111}-oriented SiC film with chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Kinetic Monte Carlo simulation of {111}-oriented SiC film with chemical vapor deposition

Liu, C. x. / Yang, Y. q. / Zhang, R. j. / Ren, X. x.

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Titel:

Kinetic Monte Carlo simulation of {111}-oriented SiC film with chemical vapor deposition

Beteiligte:

Liu, C. x. (Autor:in) / Yang, Y. q. (Autor:in) / Zhang, R. j. (Autor:in) / Ren, X. x. (Autor:in)

Erschienen in:

COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE ; 43 ; 1036-1041

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0927-0256

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 510

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