Etching Characteristics of Polycrystalline 3C-SiC Films Using Enhanced RIE: Fid-Bau Portal

Etching Characteristics of Polycrystalline 3C-SiC Films Using Enhanced RIE

Chung, G.S. / Ohn, C.M.

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Titel:

Etching Characteristics of Polycrystalline 3C-SiC Films Using Enhanced RIE

Beteiligte:

Chung, G.S. (Autor:in) / Ohn, C.M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 600/603 ; 875-878

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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