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    Titel:

    Wet-Etching Characteristics of SiCN Films Deposited by HWCVD Method

    Beteiligte:

    Nakanishi, H. (Autor:in) / Ogata, T. (Autor:in) / Kadotani, Y. (Autor:in) / Izumi, A. (Autor:in) / Vincenzini, P. / Lorenzelli, L.

    Kongress:

    Symposium, Next generation micro/nano systems; of CIMTEC 2012 ``Smart materials, structures and systems'' ; 2012 ; Montecatini Terme, Italy

    Erschienen in:

    Next generation micro/nano systems; of CIMTEC 2012 ``Smart materials, structures and systems'' ; 34-38

    ADVANCES IN SCIENCE AND TECHNOLOGY ; 81

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    5 pages

    Anmerkungen:

    Includes bibliographical references and index

    ISBN:

    9783908158677

    ISSN:

    1662-8969

    Medientyp:

    Aufsatz (Konferenz)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Schlagwörter:

    Next generation micro systems , Nano systems , CIMTEC

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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