Effect of filament biasing on nanocrystalline-Si films deposited by hot wire chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Effect of filament biasing on nanocrystalline-Si films deposited by hot wire chemical vapor deposition

Swain, B. P. / Swain, B. S. / Yang, S. M. / Hwang, N. M.

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Titel:

Effect of filament biasing on nanocrystalline-Si films deposited by hot wire chemical vapor deposition

Beteiligte:

Swain, B. P. (Autor:in) / Swain, B. S. (Autor:in) / Yang, S. M. (Autor:in) / Hwang, N. M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 6033-6037

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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